前言

纳米材料是当前材料科学领域的研究热点,由于它具有区别于一般材料的优异特性而备受人们关注,并得到了广泛应用。由于纳米材料的性能与它们的结构、成分等息息相关,因此对其表征显得尤为重要。当前原子力显微镜和扫描隧道显微镜等显微技术在纳米材料结构研究中得到大量应用,成为纳米科技的“手”和“眼”。但是,传统的表征纳米材料结构的方法也不容小觑,这些方法主要包括X射线衍射分析、透射电子显微镜分析、扫描电子显微镜分析等,其中X射线分析又是研究晶体材料的最基本和最重要的手段。

本书在第一版的基础上,做了部分修改。主要包括:重点关注纳米晶体材料的X射线衍射分析,删除了非晶局域结构的X射线分析这一章;新增了多晶X射线衍射实验方法、晶体学参数的X射线测定方法、Rietveld结构精修原理与方法三章;同时对部分章节内容进行了少量修订,以突出本书的实用性。在修改过程中,参考并采用了编者所在课题组(中国科学院上海硅酸盐研究所无机材料X射线衍射结构表征组)的部分成果,其中第3、第7、第9章部分内容由郭常霖、黄月鸿、郭荣发和刘红超等编写,阮音捷、尹晗迪和孙玥也参与编写了本书的部分章节(第4章)。本书在编写过程中还得到了中国科学院上海硅酸盐研究所的大力支持,在此一并表示感谢!

由于编著者学识所限以及编写经验不足,书中难免有疏漏之处,恳请广大读者批评指正。

编著者

2018年10月