5-10　一般四氯化硅和三氯氢硅中有哪些伴随物？

合成炉出来的产物不是单一的四氯化硅或单一的三氯氢硅，而是伴随有很多其他氯化物的混合物。这些氯化物被称为四氯化硅或三氯氢硅的伴随物。这些伴随物有硅和非硅两类。

四氯化硅和三氯氢硅中的硅氯化物主要有（表5-3）SiHCl₃、SiH₂Cl₂、SiH₃Cl、SiCl₄、SiH₄。一般认为，这些硅氯化物对多晶硅的质量影响不大，因为它们也都是硅，而且都可以在高温下还原或分解成高质量的多晶硅。

表5-3　硅氯化物的基本特性

合成炉生成的四氯化硅和三氯氢硅里除了混有上述硅氯化物组成的伴随物外，还会混有一些非硅氯化物组成的伴随物（表5-4），如BCl₃、PCl₃、CCl₄、SbCl₅、POCl₃、SnCl₄、CrO₂Cl₂、VOCl₃、AsCl₃、TiCl₄、PCl₅、AlCl₃、SbCl₃、FeCl₃、InCl₃、ZnCl₂、PbCl₂、NiCl₂、CuCl、MgCl₂、AgCl等。

表5-4　非硅氯化物的基本特性

上述这些伴随物都是四氯化硅和三氯氢硅的杂质，都会直接影响四氯化硅和三氯氢硅的质量。前面讲过，四氯化硅和三氯氢硅质量的优劣，很大程度上取决于它的纯度。合成出来的四氯化硅和三氯氢硅，是一个多成分的混合物，是不能直接用于电子工业中的，需要进一步精制提纯，将杂质去除后方可使用。