2.3 电流源电路
所谓电流源,是指电流恒定的电源,可以提供一定数值的电流输出。集成电路中,由于制造三端器件比制造电阻更为经济方便,因此往往利用两只或两只以上的晶体管和场效应晶体管制成电流源,为各级电路提供稳定的直流偏置电流。
电流源电路的基本设计思想是,先设法产生一个精确的电流源,称为基准电流;然后对基准电流进行“复制”,从而得到若干相同或不同数值的电流。实际应用中最为常见的电流源是镜像电流源,由镜像电流源能够派生出其他不同类型的电流源。
2.3.1 晶体管镜像电流源电路
晶体管构成的镜像电流源电路,如图2-26a所示。设VT1、VT2的参数完全相同,IREF为基准电流,且
VT1的基极、集电极相连,因此集电结零偏,保证管子不会进入饱和状态。VT1、VT2的基极、发射极又分别相连,使得UBE1=UBE2,所以IB1=IB2,IC1=IC2。当β1、β2较大时,IB1、IB2可以忽略,输出电流为
即IC2是IREF的“复制”,或者说IC2是IREF的镜像,故称图2-27a所示电路为镜像电流源。图2-27b是电流源的电路符号,IO=IC2。
图2-27 晶体管构成的镜像电流源
a)电路图 b)电路符号
2.3.2 场效应晶体管镜像电流源电路
场效应晶体管镜像电流源电路,如图2-28所示,VT1、VT2为性能匹配的增强型NMOS对管,IREF为基准电流,且
VT1的栅、漏两极相连,只要电源电压UDD大于VT1的开启电压UGS(th),VT1就必定工作在恒流区,而VT1、VT2的栅极、源极分别相连,故VT2也工作在恒流区,理想情况下
式中,W/L称为宽长比,即MOS管的沟道宽度与长度之比,是MOS集成电路设计中极为重要的参数。若W2/L2=W1/L1,则IO=ID2=IREF,输出电流与基准电流维持严格的镜像关系;若W2/L2和W1/L1不等,那么利用基准电流IREF就可以“复制”出不同比例的输出电流。
图2-28 场效应晶体管构成的镜像电流源