第1388章 自作自受

时刻关注光刻机技术进展的孙健，如今还没有听说台积电的林博士在国际半导体研讨会上提出研发“沉浸式光刻”的设想。

“沉浸式光刻”就是在晶圆光刻胶上方加一层水，水的介质折射率是1.44，193nm/1...