晶体生长的物理基础
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二、旋转圆盘下的温场和浓度场

根据图3-18及vrvφvzF,G,H的关系,可精确地求得流体中任一点的速度场。根据已知速度场,由热传输和质量传输方程就可求出旋转圆盘下的温度场和浓度场(temperature field and concentration field of flow under rotating desk)。

根据式(1-25)、(2-7)可得柱坐标下具有旋转对称的稳态温场、稳态浓度场中的热传输和质量传输方程

流体速度仍然应用冯卡曼的参量变换

这些是无量纲坐标和无量纲速度分量。与第五节中类似,引入无量纲温度T*与无量纲浓度C*

其中T0C0为参考温度和参考浓度,可以选取流体的平均温度和平均浓度T0C0T1C1为盘面温度和盘面浓度。进行参量变换后,可简化为无量纲温度T*、无量纲浓度C*的常微分方程

其中P为普兰托数,S为斯密特数。而边值条件为

可以看出,若流体的普兰托数与斯密特数相等,则流体内的温场和浓度场不仅有相同的无量纲方程,而且有相同的无量纲边值条件,则该流体中的温场和浓度场完全相似。一般说来,温场与普兰托数有关,而浓度场决定于斯密特数。不过我们可将方程(3-78)及边值条件(3-79)归结为

以及

N=P,则θ=T*,若N=S,则θ=C*;因而只需在数学上解满足边值条件(3-81)的微分方程(3-80)就能得到流体中的温场和浓度场。值得注意的是,我们虽然通过参量变换得到了普通的微分方程,但仍然必须用数值解。斯帕罗(Sparrow)和格雷格(Gregg)[22]N为0.01、0.1、1、10和100已分别求得了θ,而他们对式(3-80)进行数值计算时,对式中H的数值是取自图3-18中的H曲线。他们所获的结果表示于图3-20中。图中的结果是根据式(3-80)、(3-81)求解的,故当N为普兰托数时,曲线代表无量纲温度T*关于ξ的分布,而当N为斯密特数时,曲线代表无量纲浓度分布。从图中不同的N的曲线形状可以看出,旋转圆盘下的温场和浓度场的性质与流体本身的物理性质(以普兰托数和斯密特数表征)的关系十分密切。

图3-20 不同普兰托数(N=P)和不同斯密特数(N=S)的流体中温场的温度(θ=T*)和浓度场(θ=C*)[22]