钒氧化物的制备及其应用
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1 绪论

1.1 概述

钒的价电子构型为(n-1)d3ns2,5个电子都可参加成键,稳定态为V5+,此外,还能形成V4+、V3+、V2+低氧化态的化合物。氧化钒包括:V2O5、VO2、V2O3、VO[1]。不同价态的氧化钒呈现出不同的光学与电学性质。1959年Morin发现VO2具有金属相与半导体相转变的特性[2],并且在相变的同时,伴随着光学与电学特性的突变,低于相变温度时,VO2对红外线有高的透过率;高于相变温度时,VO2对红外线有高的反射率。VO2的相变温度是341K,是一种在许多领域有广阔应用前景的热敏材料,国内外对VO2展开了不断地研究。氧化钒中最稳定的是V2O5,对其他低价氧化物进行研究与应用,首先面临的是低价钒氧化物的制备问题。由于低价钒氧化物的形成条件很接近,从而使制备纯的低价钒氧化物十分困难。