前言

记得2010年年初接到电子工业出版社的电话，问能否编写一本关于TFT-LCD技术方面的书，由于当时作者忙于发展新业务，而且没有写书的经验，当然更没有信心独自完成一本书，所以没有马上答应。但考虑到当时正值国内大规模建设高世代TFT-LCD生产线，一定会有许多大专院校的学生、研究生对TFT-LCD技术有兴趣，如果把自己了解的技术及实践经验总结成一本书，必定会对他们有所帮助，少走弯路，尽快掌握TFT-LCD基础。基于上述想法，经过3～4个月的酝酿和构思后，2010年6月正式开始了本书的写作。

本书的编写过程中，作者翻阅了大量的技术文献和书籍，包括近几年SID会议的最新技术和进展。考虑到大专院校、研究所及企业里初次学习TFT-LCD技术的学生和工程师，本书力求从基础讲解，并努力讲清楚每个技术点，旨在希望更多的理工科学生、年轻的技术员被显示技术的魅力所吸引，投入到显示产业中，不断发展壮大我国从事显示产业的工程师队伍。但鉴于作者自身能力及学识所限，可能达不到预期的效果，加之书中错误与不足之处在所难免，敬请读者多多批评指正，以便将来有机会进行修改。如果本书给初学TFT-LCD技术的读者起到入门作用，对从事多年TFT-LCD技术的工程师带来一些启发，作者将倍感欣慰，也算是达到了写这本书的初衷。

本书共由10章构成。第1章对TFT-LCD技术进行了概括性的总结。第2～5章是TFT-LCD基础，主要讲解了液晶及其特性、液晶的显示模式、TFT的结构与工作原理、TFT-LCD的结构与显示原理等。第6章介绍了提高TFT-LCD的开口率、视角、响应速度及色偏等显示特性的技术。第7～8章介绍了非晶硅TFT-LCD的工艺流程、制造技术及不良检查与分析。其中不良分析是本书中与实际生产最接近的内容，但是非常遗憾的是由于时间仓促，曾经总结过的许多生动、有趣的不良分析未能写进本书中。第9章是低温多晶硅TFT的工艺流程与制造技术。第10章介绍了近几年显示行业的热门技术，如3D显示、透明显示、柔性显示等。TFT-LCD产业涉及的材料种类繁多，为了方便读者及时查阅，本书的附录中总结了玻璃、靶材、气体、药液等材料的特性与规格。

在本书的写作过程中，中国科学院欧阳钟灿院士、清华大学北京液晶技术工程研究中心张百哲教授与高鸿锦教授对初稿提出了许多建议，并在三位前辈的指导与鼓励下，充实和完善了书的内容。在此向他们表示诚挚的谢意。

上海交通大学董承远副教授对本书做了全面的校对工作，并对书的结构与内容修改提出了许多建议；电子工业出版社董亚峰编辑为本书的策划、编辑、排版与出版付出了辛勤的劳动，在此向他们表示衷心的感谢。作者还要感谢朱棋锋、叶俊、常程、孙树军、瞿春艳、曹河文、王晓凤、沈洵、刘增利等在编写过程中提供的帮助。

最后感谢我的父母、家人以及朋友们对我的理解、支持和鼓励。

作者

2011年12月于上海