更新时间:2018-12-26 19:40:29
封面
版权信息
再版前言
前言
第1章 VLSI设计概述
1.1 系统及系统集成
1.2 VLSI设计方法与管理
1.3 VLSI设计技术基础与主流制造技术
1.4 新技术对VLSI的贡献
1.5 设计问题与设计工具
1.6 一些术语与概念
1.7 本书主要内容与学习方法指导
练习与思考一
第2章 MOS器件与工艺基础
2.1 MOS晶体管基础
2.2 CMOS逻辑部件
2.3 MOS集成电路工艺基础
2.4 版图设计
2.5 发展的MOS器件技术
练习与思考二
第3章 设计与工艺接口
3.1 设计与工艺接口问题
3.2 工艺抽象
3.3 电学设计规则
3.4 几何设计规则
3.5 工艺检查与监控
本章结束语
练习与思考三
第4章 晶体管规则阵列设计技术
4.1 晶体管阵列及其逻辑设计应用
4.2 MOS晶体管开关逻辑
4.3 PLA及其拓展结构
4.4 门阵列
4.5 晶体管规则阵列设计技术应用示例
练习与思考四
第5章 单元库设计技术
5.1 单元库概念
5.2 标准单元设计技术
5.3 积木块设计技术
5.4 单元库技术的拓展
练习与思考五
第6章 微处理器
6.1 系统结构概述
6.2 微处理器单元设计
6.3 存储器组织
6.4 微处理器的输入/输出单元
练习与思考六
第7章 测试技术和可测试性设计
7.1 VLSI可测试性的重要性
7.2 测试基础
7.3 可测试性设计
练习与思考七
第8章 模拟单元与变换电路
8.1 模拟集成单元中的基本元件
8.2 基本偏置电路
8.3 放大电路
8.4 运算放大器
8.5 电压比较器
8.6 D/A、A/D变换电路
练习与思考八
第9章 微机电系统(MEMS)
9.1 MEMS器件概念
9.2 CMOS MEMS
9.3 MEMS器件描述与分析
9.4 MEMS器件建模与仿真
练习与思考九
第10章 设计系统与设计技术
10.1 设计系统的组织
10.2 设计流程与软件的应用
10.3设计综合技术
10.4 可制造性设计(DFM)
结束语
参考文献